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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆工作我们坐落于西北地方,常见工作8寸大半导体设备晶圆,每日污废水 排卸量约800吨。因工作过程中 中用大批氢佛酸采取晶圆蚀刻,出现污废水 中氟化物浓度值高达模型200-300mg/L,远超国家的排卸规格(10mg/L以内)。 电镀废水组分及來源 化工废水主要是源于6个缓解: 晶圆蚀刻工艺流程 :含高氨水浓度氟化物(HF)、硝酸钠及少许血本属 化学上机器打蜡 (CMP)废渣 :含微米级硅颗粒状、充分络合剂 主设备清洁工作废水处理工艺 :含异丙醇、化学需氧量等有机质物 鑫霖环保设备标准流程 所采用"化学上石雕文化石雕文化沉淀+水泥混凝土石雕文化石雕文化沉淀+深度1滤过"3级处理系统化: 6级净化处理 :添加氯化钙和氢空气氧化钙,确立氟化钙沉淀物,氟化物避开率达85% 三级处里 :增长PAC(聚合反应氯化铝)和PAM(PP酰胺),的还原固体态环保问题物 三级分销工作 :用多物质管道过滤器器和活力性炭降解,溢水氟化物有机废气浓度稳定性高在8mg/L以內 最为关键的设计比如:pH自功调控设计、斜管结晶池、板框活性污泥压滤机(活性污泥缺水)。 结果英文特效 新项目运营5年检测数据库提示 : 氟化物的平均有机废气浓度:7.2mg/L(不高于国家地区条件) COD清除率:92% 淤泥含水量率:≤65% 年收购氟化钙副产物设备约150吨,保证 影视污泥处置用

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